冷卻水處理復(fù)合緩蝕阻垢劑

有機膦系列阻垢緩蝕劑配方

配方1

    HEDP                 15mg/L

    巰基苯并噻唑        1-2mg/L

    聚丙烯酸鈉          7-8mg/L

    配方中的各主要組分按比例溶于水中即成本品，使用濃度為20mg/L。本品可與緩蝕劑六偏磷酸鈉配合使用，使用時pH值控制在6-9之間。HEDP是一種優(yōu)良的分散劑，可與成垢的陽離子絡(luò)合或鍥入垢物微晶體的晶核之中，使晶格變形，從而抑制晶體的成長，起到阻止或延緩沉積結(jié)垢的作用。

  配方2

HEDP                   15 mg/L

    巰基苯并噻唑            2mg/L

    聚丙烯酸鈉              8mg/L

    稀氫氧化鈉水溶液        適量

    本品對阻垢、緩蝕和控制黏泥的效果較好。HEDP是一種優(yōu)良的分散劑，起阻止或延緩沉積結(jié)垢的作用，在循環(huán)冷卻水中的使用濃度為20mg/L本品可與緩蝕劑六偏磷酸鈉配合使用，使用時pH值控制在6-9之間，就使用中pH值調(diào)控范圍的不同，循環(huán)水操作可分為酸化法和堿化法。